Анотація: Проведено дослідження процесів формування для наноелектроніки силіцидів в шаруватих структурах тугоплавких структур метал-кремній (Me, W, Mo, Ti, V) методом зворотного розсіювання іонів.
Бібліографічний опис для цитування:
Формування силіцидів металу при іонному бомбардуванні шаруватих структур / А.К. Гнап,
Г.В. Прохоров,
М.М. Пеліхатий,
Б.А. Гнап
// Системи обробки інформації. – 2004. – № 5(33). – С. 49-56.